FCXF系列退火炉通过设置三维稳态热场、气场，建立多通道工作空间实现高精密结构器件退火。采用先进的温度均匀性控制技术，确保退火工艺的精确性和一致性。 热场控制：三维稳态热场/精确温控系统/多通道设计 应用对象:高精密结构器件/电子元器件/光学玻璃
使用温度
300℃-950℃
有效空间
≤2000 L
气氛条件
Air
典型应用
光学玻璃退火、金属工件、电子工件退火等
控温精度
±1℃
控制方式
微机+智能仪表控制
其他
可接受客户要求定制
技术优势
采用先进的三维稳态热场和气场控制技术，建立多通道工作空间，确保退火过程中温度均匀性和气氛稳定性，满足高精密结构器件对退火工艺的严格要求。
